溅射气压和快速热退火对五氧化二钽薄膜光学性能的影响

溅射气压和快速热退火对五氧化二钽薄膜光学性能的影响(中文3100字,英文pdf)                               
摘要 采用直流反应磁控溅射技术制备了五氧化二钽薄膜，并对其进行了快速退火热处理。研究了溅射气压和退火温度对五氧化二钽的表面性能，微观结构和光学性能的影响。制备的Ta2O5薄膜为非晶结构，经过800 oC退火处理后，变为六方相结构的δ- Ta2O5。若退火温度为900-1000 oC则从六方相转变为正交相。在低温下退火氧化钽的表面粗糙度会降低。退火温度增加氧化钽薄膜的消光系数和折射率会随之下降。
关键词：五氧化二钽薄膜；直流反应磁控溅射；溅射气压；快速热退火
 

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