退火处理对Al掺杂ZnO薄膜的结构,光学和电学性质的影响
资料介绍:
退火处理对Al掺杂ZnO薄膜的结构,光学和电学性质的影响(中文3000字,英文pdf)
摘要:由直流(dc)和射频(rf)磁控溅射方式制作的含有锌目标al(1.5%含量)的高导电性和透明的掺杂zno(azo)薄膜。使用不同的技术,azo薄膜的结构,光学和电学性能在不同温度的退火处理(300和400℃下)显示不同的特征。实验 结果表明,AZO薄膜的性能可以通过退火处理进一步提高。经退火处理后ZnO薄膜的结晶性提高。直流与射频(RF)磁控溅射制备的AZO薄膜在可见光区域的透射率分别是80%和85%。直流磁控溅射制备AZO薄膜的电阻率在经过退火处理火可低至8.06×10-4Ω⋅cm。有人还发现,射频反应磁控溅射制备的AZO薄膜比直流磁控溅射的有更好的结构性和光学性
关键词:AZO薄膜的结构,光学和电学性能;退火;透射光谱;电阻 [来源:http://www.doc163.com]